橢偏儀 型號:SE850
主要用途、功能及特點
極管SE850型是一種高性能分光光譜橢偏儀，基于UV/VIS光譜范圍內(nèi)的二極管陣列探測和NIR光譜范圍內(nèi)的快速干涉儀模塊探測。在NIR光譜內(nèi)應(yīng)用FT-IR分光儀，不僅提高速度，分辨率和信噪比，而且還能提供自動波長校準(zhǔn)。配備高精度計算機(jī)控制的測角儀�；赪indows 和GRAMS的橢偏儀軟件SPECTRARAY，包括簡便數(shù)據(jù)讀取、橢偏光譜的建模和擬和數(shù)據(jù)庫，可用于多角度，多樣品和光學(xué)參數(shù)的測定數(shù)據(jù)分析。SE850的補(bǔ)償器件能使橢偏儀以最高的精度和無以倫比的重復(fù)性進(jìn)行橢偏測量�？焖俚臄�(shù)據(jù)采集和完整的光譜區(qū)域使得SE850成為多層膜樣品的厚度和光學(xué)參數(shù)測量的理想工具。
▪ 薄膜和層堆厚度與折射率測量
▪ UV-VIS-NIR 光譜范圍內(nèi)材料光學(xué)性能測量
▪ Index 梯度測量
▪ 表面與界面粗糙度測量
▪ 材料成分確定
▪ 厚度達(dá)30mm 的厚膜分析
▪ 特別適合于包含半導(dǎo)體材料的分析(InP, InGaAs, InGaAlAs, InN)
▪ 極快速測量在UV/VIS/NIR范圍可用于多元檢測
▪ 基于FT-IR和二極管陣列探測的高分辨率測量
▪ 檢偏器步進(jìn)掃描原理
主要技術(shù)參數(shù)
|
名義光譜范圍 |
350 ~ 1700nm |
|
UV光譜范圍(可選) |
280 ~ 850nm |
|
NIR光譜范圍(可選) |
1700 ~ 2300nm |
|
薄膜厚度測量范圍 |
0.1 ~ 30mm |
|
厚度測量精度 |
0.01 ~ 0.03nm |
|
折射測量精度 |
0.0005 |
|
測量時間 |
30s（全部 y 和 D 光譜） |
|
UV/VIS: 通常 <10s | |
|
NIR: 通常 <60s | |
|
入射角（可選） |
40° ~ 90°（最小步進(jìn)0.01°） |
|
手動樣品臺（可選） |
X-Y，150mm 行程 |
|
自動樣品臺（可選） |
X-Y，50 ~ 200mm 行程（綜合繪制軟件） |
|
SPECTRARAY 軟件 |
基于Windows 和GRAMS 的橢偏儀專業(yè)軟件 |
|
附加選項 |
計算機(jī)控制起偏器 |
|
輸送樣品夾 | |
|
用于樣品同步與檢測的攝像機(jī) | |
|
液體池 | |
|
FTPAdvanced 薄膜測量儀，光點直徑80mm | |
|
微區(qū)裝置 | |
|
繪制自動校準(zhǔn)鏡 | |
|
SENTECH 測試樣品 | |
|
附加橢偏儀軟件SPECTRARAY II |
